[ONLINE] 반도체공정theory
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작성일 24-05-22 20:54
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② interlevel dielectric
반도체공정theory
,공학기술,레포트
반도체공정theory
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설명
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V = Ed의 관계식에 의해
V = (E0/k) * d
=> V = (E0*d) / k ( V0 = E0d)
=> V = V0 / k
즉, 두 판 사이에 유전율이 ε인 물질을 삽입하면 두 판 사이의 퍼텐셜의 차이(전위차)는 k(= ε / ε0) 만큼 축소하게된다
또한 전기용량 C = Q / V이므로
C = Q0 / V
=> C = Q0 / ( V0 / k ) ( V = V0 / k )
=> C = kQ0 / V0 = kC0
가 된다 이로서 k 값과 capacitor 용량이 비례관계가 성립함을 알 수 있으며 우리가 적절한 유전상수를 가진 물질을 축전판 사이에 삽입하면 정전용량을 k 값에 따라 조절 할 수 있음을 의미한다. 그러나 이는 break down voltage를 떨어뜨려 소자의 property(특성)을 낮추게 되므로 좋지않은 방법이다.
2) 유전물질의 응용
일반적으로 반도체에 있어서 dielectric material은 크게 두 가지 경우에 있어서 사용되고 있…(To be continued )
